产氢量/ H2 output：2 m3/h；

  可利用的原料氢来源有：重整制氢（煤、天然气、汽油、柴油、石脑油、甲醇、乙醇、二甲醚、乙醚等）；各种副产氢（氯碱、炼化、石化、焦化、煤化工等）；化学分解制氢（氨、铝、硼氢化物、氢化物、甲酸等）；电解（碱液、纯水）制氢等。

  可广泛用于氢能、半导体芯片、烧结炉保护气、MOCVD、人造金刚石、色谱分析等领域，以及氢气/氦气分离、氢同位素（氕氘氚）的分离与纯化。

半导体芯片、液晶显示器-CVD氢气纯化器

 ■半导体芯片的CVD制造工艺所需氢气纯度8N~12N，只能通过钯膜纯化。本公司产品打破了国外垄断，也可为TFT-LCD液晶显示器的CVD工艺提供关键电子气。

人造金刚石用氢气纯化器

 ■用于MPCVD工艺，显著提升人造金刚石的质量和成色（特别是用作首饰）。